5月24日，國家科技重大專項極大規(guī)模集成電路制造裝備與成套工藝專項項目 極紫外光刻膠材料與實驗室檢測技術通過驗收。

　　該項目由中國科學院化學研究所、中國科學院理化技術研究所、北京科華微電子材料有限公司聯合承擔。經過項目組全體成員的努力攻關，完成了EUV光刻膠關鍵材料的設計、制備、合成工藝、配方組成以及光刻膠制備、實驗室光刻膠性能初步評價裝備的研發(fā)，達到了任務書中規(guī)定的材料和裝備的考核指標。截止到目前，共獲得授權專利10項(包括國際專利授權3項)。

　　與會專家對項目取得的研發(fā)成果給予了充分肯定。專家指出，開展極紫外光刻膠的研發(fā)具有戰(zhàn)略眼光，經過項目組成員幾年的努力，完成了研發(fā)任務，達到了項目任務書中規(guī)定的指標;建立了一支高檔光刻膠研發(fā)隊伍，為我國的半導體集成電路產業(yè)的穩(wěn)定發(fā)展提供了人才支持。

　　課題承擔單位表示，我國高檔電子化學品的研發(fā)正處于高速發(fā)展期，該項目的完成將對我國半導體產業(yè)的穩(wěn)定發(fā)展提供重要保證，希望國家對高檔光刻膠的研發(fā)給予持續(xù)支持。

　　下圖為項目人員匯報項目總體情況。